د مالیکولي بیم اپیټیکسي په لوړ خلا یا خورا لوړ خلا کې ترسره شوه (1 x 10^-8د مالیکولي بیم اپیټاکسي ترټولو مهم اړخ د هغې ټیټ جمع کولو کچه ده، کوم چې معمولا فلم ته اجازه ورکوي چې د اپیټاکسیال وده وکړي په ساعت کې د 3000 نانومیټر څخه کم سرعت سره. د دې ټیټ جمع کولو کچه د نورو جمع کولو میتودونو په څیر د پاکوالي ورته کچې ترلاسه کولو لپاره کافي لوړ خلا ته اړتیا لري.

د پورته ذکر شوي الټرا لوړ خلا د پوره کولو لپاره، د MBE وسیله (کنودسن حجره) د یخولو طبقه لري، او د ودې چیمبر الټرا لوړ خلا چاپیریال باید د مایع نایتروجن گردش سیسټم په کارولو سره وساتل شي. مایع نایتروجن د وسیلې داخلي تودوخه 77 کیلوین (−196 °C) ته سړه کوي. د ټیټ تودوخې چاپیریال کولی شي په خلا کې د ناپاکۍ مینځپانګه نوره هم کمه کړي او د پتلو فلمونو د زیرمه کولو لپاره غوره شرایط چمتو کړي. له همدې امله، د MBE تجهیزاتو لپاره د -196 °C مایع نایتروجن دوامداره او ثابت عرضه چمتو کولو لپاره د مایع نایتروجن یخولو گردش سیسټم ته اړتیا ده.